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RB-2026-000302

China AI Tour: Piotech (688072.SS, NC): Memory capacity in expansion drives growth ahead; Tools in expansion with specification upgrade

中国AI之旅:拓荆科技(688072.SS,未覆盖):存储产能扩张驱动未来增长;设备品类随规格升级而扩张

高盛
高盛研究部
||5 页|英文|PDF · 4.1 MB
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摘要

Abstract

高盛在"中国AI之旅"活动中于9月11日在北京与拓荆科技管理层进行交流。公司对薄膜沉积设备业务保持乐观,受益于中国半导体资本开支上行趋势,其等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备在向先进制程节点升级的同时持续扩产品类;管理层预期先进封装设备未来有望为公司带来额外上行空间。管理层对国内沉积设备需求的积极表态,与高盛对晶圆制造设备(WFE)支出的乐观预期一致,存储与先进制程相关投资增加将推动中国晶圆厂设备开支保持增长,并利好全球及本土沉积设备供应链。公司简介显示,拓荆科技为国产薄膜沉积设备供应商,是PECVD领域本土龙头,同时提供高端CVD(SACVD、HDPCVD等)与ALD设备,受益于下游半导体客户产能扩张及国产化趋势。核心要点:本土主要存储厂商扩产以及沉积设备国产化率提升,将为拓荆等本土厂商带来增长机遇;

核心观点

Key Takeaways
  1. 01管理层看好先进封装设备成为公司新的潜在增长点。
  2. 02高盛预计2026-28年中国WFE支出同比增长13%/20%/15%。
  3. 03多元化产品组合与长期验证积累支撑其本土龙头地位。

报告信息

Report Data
券商
高盛
分类
个股 / 科创板
页数 / 大小
5 页 · 4.1 MB
发布日期
2026-09-14

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